Al(100)表面迁移：普通NEB → CI-NEB → VTST提取与画图 / 鸢算科技

先 bash run.sh 画参考图，不提交计算。
再 bash submit.sh 提交P100单卡完整计算；或 bash submit.sh v100。
bash results.sh 看作业号和状态；完成后 bash plot.sh work/p100/analysis own-figures。
完整流程：初末态分别优化→nebmake.pl插入1个中间图像→普通NEB→用其CONTCAR做CI-NEB→真实±0.03A静态计算检查路径方向曲率→在副本运行nebresults.pl等→CSV与图。
13Al，底部8原子固定、表层4原子及吸附Al可动，固定晶胞，Gamma2x2x1，EDIFF1E-6，力0.02eV/A。
单卡/单MPI仅对应此1个中间图像的小例；增加IMAGES需同步调整MPI和GPU资源，不能照抄单卡布局。
这是hollow间直接跳跃小例，不是所有交换机制中的最低能垒，也不是已收敛的生产扩散参数。
只有3个真实路径结构，曲线上的其余点是VTST样条插值，不是额外DFT。
E0能垒与用于力/曲率的展宽自由能F分别保存；负路径曲率不等于完整Hessian只有一个虚频。
POTCAR、完整OUTCAR/XML、WAVECAR、厂商程序不在下载包内。使用本人获授权的VASP；默认集群PBE64 Al势，可通过AL_POTCAR指定本人授权文件。
nebresults.pl会压缩OUTCAR并生成/覆盖结果文件，本程序只在analysis/native副本执行，不修改原计算目录。
