VASP真空参照带边与电子亲和势
用单层和双层hBN实际计算,提取平坦真空势并比较Kohn–Sham带边。
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不同计算的本征值通常不共享能量零点。若想比较二维材料的带边,可先把每个模型的真空平台作为共同参照。本文以单层和AA′双层hBN为例,展示真空势、价带顶和导带底的提取。
1. 建立两个带真空的模型#
面内晶格常数2.50 Å,z方向晶胞长20 Å。单层含2个原子并放在z=10 Å;双层含4个原子,层间距3.30 Å,整体居中。两个模型均保持指定几何,零外场、整体中性。
采用PBE PAW64、550 eV、EDIFF=1E-6、9×9×1 Gamma网格、32条带。关键势输出设置为:
LVHAR = .TRUE.
LVTOT = .FALSE.
LDIPOL = .TRUE.
IDIPOL = 3
DIPOL = 0.5 0.5 0.5
EFIELD = 0
NSW = 0
LVHAR输出离子与Hartree势,适合检查真空平台。低密度区的交换关联势可能使LVTOT总势不够平滑;不能在明显倾斜或振荡的区间随意取一个数当真空能级。
各目录按B、N顺序准备合法POTCAR,再提交:
sbatch run.sh
2. 提取自己的真空平台和带边#
module load ase/3.29.0
python extract_band_alignment.py
脚本对LOCPOT做xy平面平均,在z=1–5与15–19 Å两段真空区取平均,并报告该区间的最大减最小值。带边来自同一次vasprun.xml的当前k网格,不跨结构或电场混用数据。
IP_KS = V_vac − E_VBM
EA_KS = V_vac − E_CBM
E_gap = IP_KS − EA_KS
这里的IP_KS和EA_KS是由PBE Kohn–Sham带边得到的估算量,不是严格的多体电离能或电子亲和能。
3. 本例的实际结果#
| 模型 | 网格带隙 / eV | IP_KS / eV | EA_KS / eV | 真空窗口势极差 / eV |
|---|---|---|---|---|
| 单层 | 4.6765 | 5.7977 | 1.1212 | 0.000154 |
| 双层 | 4.5832 | 5.8517 | 1.2685 | 0.000782 |

以真空为0后,价带顶位于−IP_KS、导带底位于−EA_KS。两个模型的原始OUTCAR本征值差别不能直接解释为带阶;先对齐真空,再比较。
本例真空对齐后,双层相对单层的价带顶变化为-0.0540 eV,导带底变化为-0.1473 eV。图中只比较各自孤立模型的带边,没有计算真实接触界面。
4. 为什么这还不是异质结实际带阶#
真实界面会产生电荷重排、偶极、应变与层间耦合;独立材料的真空对齐只能作为一种起点。定量界面带阶需要建立具体界面,再用共同的势参照和相应电子结构方法分析。
薄层厚度、真空、k点与泛函都会影响结果。PBE带隙误差会传递到带边,光学激子跃迁也不等于这里的Kohn–Sham带隙。绝缘体中费米能位置的约定还会影响“功函数”读数,因此本例直接报告VBM/CBM相对真空的位置。
本例使用鸢算科技集群的vasp/6.6.1-p100,NVHPC25.3、CUDA12.8及配套MPI,经Slurm完成固定几何静态计算。方法参数见LVHAR说明。